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ウェットベンチおよびクリーンルーム向けプラスチック

ウェットベンチおよびクリーンルーム向けプラスチック

ウェットベンチは、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たす装置です。この装置は、半導体ウェーハー上の複数の工程を遂行するための特殊な作業スペースを提供します。ウェットベンチは、化学的な処理や洗浄工程を行うための専用のタンクやポンプ、ノズル、制御システムなどを備えています。これにより、半導体ウェーハーの表面を洗浄し、薬品を用いて微細なパターンを形成するなど、微細な加工を行うことが可能です。ウェットベンチは、製造プロセスの品質と効率を向上させ、高性能な半導体デバイスの製造に欠かせない重要な機器です。

クリーンルームは、半導体製造およびその他の高精度な産業プロセスにおいて使用される特殊な作業環境です。この部屋は、微細な粒子や微生物などの外部からの汚染物質を最小限に抑えるために設計されています。半導体製造においては、クリーンルームは非常に重要であり、最新の技術と規制に適合するように設計されています。

 

素材特性

使用される代表的なプラスチック素材

  • PEEK
    優れた耐薬品性および低アウトガス性
  • PET
    優れた耐薬品性、強度、剛性、靭性
  • PTFE
    あらゆる化学薬品にほぼ無反応
  • ECTFE FM4910
    過酷な化学薬品にさらされる場所で使用可能
  • PVDF FM4910
    過酷な化学薬品が使用されている場所で使用可能
  • PP, PPs
    耐薬品性、耐酸性、UL94:V2
  • PVC FM4910
    クリーンルームで使用可能なFM4910規格適合塩ビ

[Translate to Japanese:] Röchling materials for Wet Bench

クリーンルーム向け素材

クリーンルームで使用される樹脂素材は、微粒子や塵埃の発生を最小限に抑え、高い清浄度を保つことが求められます。
クリーンルームの設計者は、クリーンルームのクラスから使用範囲、特定の顧客要件まで、多くの要因を考慮する必要があります。
最適な素材選択に関しては是非弊社にお気軽にお問い合わせください。

是非弊社までお問い合わせください

半導体業界で使用されるプラスチックの性能や耐用年数は、様々な要因に影響されます。
材料を正しく選択するためには、下記の基準を考慮する必要があります。

(例)

お客様の特定の用途に適した材料の選択について、弊社スタッフが是非アドバイスさせていただきます。
ページ下部のお問い合わせフォームをご利用ください。

 
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